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空气、氩气、氮气、氧气、氢气、四氟化碳plasma清洗...
等离子清洗机常用的气体有普通的空气、氩气、氮气、氧气、氢气、四氟化碳等等，每种气体都有自己的特性，这里我一一给大家做一做讲解
氩气是一种无色无臭的惰性气体，通过高压气瓶运输和存储，在工业中经常应用于金属的电弧焊接和切割保护。
氩气是一种惰性气体，电离后产生的离子体不会与基材发生化学反应，在等离子清洗中主要被应用于基材表面的物理清洗及表面粗化，最大的特点就是在表面清洗中不会造成精密电子器件的表面氧化。正因如此，氩等离子清洗机在半导体、微电子、晶圆制造等行业被广泛应用。
氩气、氦气、氮气等都是非反应性气体。氮等离子体处理可以提高材料的硬度和耐磨性。氩和氦性质稳定，放电电压低(氩原子电离能E为15.57eV)，容易形成亚稳态原子。当然等离子清洗机一方面利用其高能粒子的物理作用清洗容易氧化或还原的物体，Ar+轰击污垢形成挥发性污垢，用真空泵抽走，避免了表面物质的反应；另一方面，亚稳原子容易利用氩形成，然后与氧和氢分子碰撞时发生电荷转换和结合，形成氧氢活性原子作用于物体表面
氢气属于不稳定气体，主要用于还原，清洗掉金属表面的氧化物。四氟化碳是一种无色无味的气体，无毒、不燃，但在高浓度时具有麻醉作用，所以在工业应用时储存的容器为专用高压气瓶，所使用的减压阀也为专用减压阀。
四氟化碳在被等离子清洗机电离后会产生含氢氟酸成分的刻蚀性气相等离子体，能够对各种有机表面实现刻蚀及有机物去除，在晶圆制造、线路板制造、太阳能电池板制造等行业中被广泛应用，在晶圆制造行业中光刻机利用四氟化碳气体进行硅片的线路刻蚀，等离子清洗机利用四氟化碳进行氮化硅刻蚀及光刻胶去除。
大气压等离子就是常压等离子，通常有三种效果模式可选。一是选用 氩气/氧气 组合，主要面向非金属材料并且要求较高的表面亲水效果时采用，比如玻璃，PET 材料等。 二是选用 氩气/氮气 组合，主要面向各种金属材料，如金线、铜线等。因氧气的氧化作用，替换为此方案中的氮气后，该问题可以得到有效控制。三是只采用压缩空气的情况，只采用压缩空气也可以实现表面改性，并且也是常见的一种处理办法，处理很多材料表面都是使用压缩空气直接处理。此为特殊情况，是少数工业客户需要有限而均匀的表面改性时采用的方案。
安全易用。大气压式等离子，也是低温等离子，不会对材料表面造成损伤，例如对方阻值敏感的材质亦可处理。无电弧，无需真空腔体，也无需废气排放系统，长时间使用并不会对操作人员造成身体损害。
面积宽大。大气压等离子最大可以处理2m宽的材料，可以满足现有多数工业企业的需求。
成本低廉。大气压等离子设备功耗低，运行成本以气体为主。
大气压等离子清洗机就是常压等离子清洗机，按照喷头分类，可以分成为旋喷等离子清洗机和直喷等离子清洗机，直喷机能量高，通常用来处理点和线状区域，旋喷等离子清洗机用来处理的地方比较宽，而且喷头大小可以定做到 直径10cm以上，多个喷头同时使用可以处理很宽的区域。从广义上面来说，电晕机其实也是等离子清洗机，通常也是用大气处理。
实际工作过程中，为了保证最好的清洗效果，常常多种气体使用，比如先用氢气还原，然后用氧气或者混合气体使用处理，而且会对清洗的时间，通入的气体量也会做调整。当然，如果你有材料处理，请联系我们的技术，发材料过来，我们来给你做测试，以达到最佳的清洗效果。
