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等离子清洗机里面各种气体的清洗作用
因为等离子清洗处理的材料不一样，要求也不同，对于处理每一种工艺，都会选择对应的气体，并且根据清洗的程度，调整输入气体的比例，清洗的停留时间等参数。目前等离子清洗机里面常用的气体有空气、氧气、氩气、氢气、氩氢混合气体、cf4等。每一种气体的特性都不一样，清洗带来的效果也不相同。有的还会选用混合气体，即把多种气体混合在一起使用，以达到最好的清洗效果。
那这些清洗工艺气体都是怎么配比的呢？这个其实是很大公司的秘密，每个公司都会有自己的一套清洗工艺，然后去调整测试的，今天我给大家讲的是各种气体的特性，让大家对于等离子清洗机的各种气体有一个了解。
氢气的主要作用是用来的金属表面的氧化物做清理，其清洗的过程其实是化学还原反应，氢气离子和金属表面的氧气离子化学反应变成水气。
氧气离子是用来清洗材料表面的有机化合物，通过对有机化合物的氧化发生反应达到清洗的目的。氩、氦、氮等非反应气体。氮处理可提高材料的硬度和耐磨性。氩和氦气体特性平稳，分子的充放电工作电压低非常容易产生亚稳态分子，一方面，运用其高能粒子的物理学功效来清理易被氧化或还原物件。
Ar+轰击污物产生挥发物化学物质污染物会从真空泵抽离出来，以防止表层化学物质的反应。氩非常容易产生亚稳态分子，与氧原子撞击时产生正电荷变换和再重组。在plasma清洗设备中应用纯氢是效率很高的，但考虑到了充放电的可靠性和安全系数，在等离子清洗设备中也可以应用氩氢化合物。此外，还可以采用反向氧气和氩氢气的清洗顺序，这种清洗机具有易氧化、易还原的特点。
1)氩气：物理学轰击表面是氩气清理的原理。氩是有效的物理学plasma清理气体，因为它的原子大小，能用非常大的能量打中产品表层。正氩正离子会被负极板吸引住，撞击力得以除去表层的一切污渍。随后这种气体污染物会随着泵排出。
2)氧气：与产品表层化学物质是有机化学反应。比如，氧能够合理地除去有机化学污染物，与污染物产生反应，形成二氧化碳、一氧化碳和水。一般来说，化学反应很容易除去有机污染物。
3)氢气：氢可用以除去金属表层氧化物。它常常与氩混合以提升去污能力。大家广泛关心氢的易燃性性和氢气储存使用问题，我们可以用氢产生器从水里造成氢。除去潜在性的伤害。
4)cf4/sf6：氟化气体主要是用来线路板上面的，通过化学反应将氧化物转换为氯化物，用在半导体材料和pcb（印刷线路板）等工业生产
